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青島佳鼎分析儀器有限公司

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賽默飛質譜儀

詳細摘要： ThermoScientific™OrbitrapExploris™GC240高分辨氣質聯(lián)用儀將科學研究能力提升到了一個的新水平，加速了...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2024-01-14 在線留言
二手ASML光刻機,KrF曝光機現(xiàn)貨

詳細摘要： ASML二手KrF曝光機，光刻機現(xiàn)貨由青島佳鼎分析儀器有限公司提供，除此之外，我們的技術團隊還支隊對光刻機的技術改造和方案對接
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-18 在線留言
日本尼康Nikon二手翻新定制曝光機分步投影光刻機NSR-S204B

詳細摘要： Nikon分步投影光刻機NSR-S204B，用于集成電路生產(chǎn)過程中的微光刻工藝，通過投影成像方式，把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-17 在線留言
ASML 步進式掃描DUV光刻機 ArF曝光機 NXT1970Ci/1980Di

詳細摘要：
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-17 在線留言
ASML KrF曝光機，二手光刻機AT: 850B

詳細摘要： 2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF(248nm)StepScan300mm雙級光刻系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-16 在線留言
ASML ARF曝光機，二手翻新步進掃描光刻機PAS 5500-750C

詳細摘要： PAS5500/750FDUV步進掃描系統(tǒng)使用成熟的248nmKrF技術，可以實現(xiàn)130nm的大規(guī)模生產(chǎn)
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-16 在線留言
TEL二手翻新涂膠顯影機CLEAN TRACK™ LITHIUS

詳細摘要： CLEANTRACK™LITHIUS™是一款300/200mm涂布機/顯影機
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-07 在線留言
SUSS 二手涂膠顯影機 MicroTec ACS200

詳細摘要： SussMicroTecACS200是一種自動光刻膠涂層和烘烤站，具有盒到盒基底操作
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-06 在線留言
TEL CLEAN TRACK ACT8（ACT12）涂膠顯影機

詳細摘要：日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機CLEANTRACKACT8/12，是有著良好性能和可靠性的半導體微電子生產(chǎn)設備,是可對應200/300mm硅片生產(chǎn)的涂...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-04 在線留言