晶片尺寸
2-9英寸，圓形基片、方形基片、光罩表面去膠及清洗工藝
產(chǎn)品特點

序號	清洗方式	移動掃描	固定式	噴射壓力	噴射角度	高度可調(diào)	流量可調(diào)
1	毛刷清洗	√				√	√
2	常壓水清洗	√	√		√	√	√
3	高壓水清洗	√		√	√	√	√
4	去膠清洗	√			√	√	√
5	二流體清洗	√		√	√	√	√
6	兆聲波清洗	√		√	√	√	√
7	SPM清洗	√		√	√	√	√
8	氮氣吹干	√	√				√

主要技術(shù)參數(shù)：
1、晶片尺寸： 2-9寸 圓形基片、方形基片
2、上下料方式： 手動上下片/高效機械手自動傳送
3、額定轉(zhuǎn)速： 0～1500rpm
最小調(diào)整量： 1rpm
轉(zhuǎn)速精度： ±2rpm（500~1500rpm）
4、夾持方式 ： 多點支撐、四角夾緊、機械安全限位的方式
5、毛刷材質(zhì)： 尼龍毛刷絲徑：0.05mm
6、背面清洗功能： DI水沖洗

應用行業(yè)
廣泛服務于襯底材料清洗、化合物半導體、LED、MEMS、OLED、光通訊、科研等領域