中普尼實(shí)業(yè)集團(tuán)（海南）有限公司
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品用途與特點(diǎn)：1、本產(chǎn)品利用低能量平行Ar﹢離子束對(duì)基片表面進(jìn)行轟擊，將基片表面未覆蓋掩膜的部分濺射出，從而達(dá)到選擇刻蝕的目的
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：?？谑?/b>更新時(shí)間：2023-06-29 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品用途與特點(diǎn)：1、本產(chǎn)品通過(guò)物理與化學(xué)相結(jié)合的方法，對(duì)亞微米一下線(xiàn)條進(jìn)行干法刻蝕，以形成精細(xì)圖形
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：海口市更新時(shí)間：2023-06-29 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備CPN-H67-12A型：該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體集成電路制造中氮化硅、多晶硅、二氧化硅的干法刻蝕；而且還能刻蝕鉻、氧化鉻、鋁等
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詳細(xì)摘要： 本設(shè)備是為淀積設(shè)備配套而設(shè)計(jì)的，主要用于半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中對(duì)氮化硅、多晶硅的干法腐蝕；而且還能刻蝕二氧化硅、鉻、氧化鉻等各種介質(zhì)膜和金屬膜
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詳細(xì)摘要： 表面鈍化技術(shù)是提高器件的可靠性穩(wěn)定性的一項(xiàng)有效的措施
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品用途與特點(diǎn)1、本設(shè)備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面沉積SIOx、SINx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SIC、類(lèi)金剛石等多種薄膜，并可沉積摻雜薄膜
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：海口市更新時(shí)間：2023-06-29 在線(xiàn)留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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