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BG-406系列曝光機

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產(chǎn)品簡介

BG-406系列曝光機主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對準和曝光

詳細介紹

BG-406系列曝光機主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對準和曝光。該系列曝光機包括4″、6″單/雙面曝光機，可實現(xiàn)單/雙面對準、單面曝光。

主要技術(shù)特點

對準工作臺

對準精度搞，漂移小，精密楔形誤差補償機構(gòu)實現(xiàn)三點找平，找平力小，延長掩摸版使用壽命。

曝光系統(tǒng)

采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學(xué)件，具有較高的光強、均勻性、光學(xué)分辨率。

顯微鏡

顯微鏡像質(zhì)清晰，觀察舒適。

顯微鏡掃描系統(tǒng)

采用電機驅(qū)動，帶動顯微鏡系統(tǒng)相對工作臺的二維運動，完成顯微鏡觀察和掃描。

控制系統(tǒng)

采用工業(yè)計算機總線系統(tǒng)，人機交互界面簡潔直觀，操作方便,同時提供個性化服務(wù)。

主要技術(shù)指標

性能名稱			技術(shù)指標
工作臺行程		Ｘ向	±5mm
		Y向	±5mm
		Z向	8mm
		θ向	±5°
適用基片尺寸			Max 6″（φ150 mm）
適用掩模版尺寸			Max 7″（175×175 mm）
頂部顯微鏡	放大倍率		CCD連續(xù)變倍40×～300×
	掃描范圍		50mm×50mm
	調(diào)焦范圍		8mm
	物鏡分離距離		28～90mm（4″晶圓） 75～150mm（6″晶圓）
	對準精度		±0.5μm
底部顯微鏡	放大倍率		330×
	物鏡掃描范圍X		50～140mm
	物鏡掃描范圍Y		±12mm
	對準精度		±2μm
曝光光源			UV365，500W超高壓汞燈
曝光面積			φ108mm φ160mm
曝光分辨率			1.5μm（膠厚≤1μm正膠、真空接觸）
光強			≥20mW/cm²
曝光不均勻性			±3%（曝光面積φ108mm） ±5%（曝光面積φ160mm）
曝光時間			0～999s
整機功率			2KW
外形尺寸			1300mm×1100mm×1650mm
重量			350Kg

關(guān)鍵詞:

曝光

顯微鏡

掃描

范圍

系統(tǒng)

物鏡

對準精度

采用

工作臺

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