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紫外曝光機

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產(chǎn)品型號FPMIC-aligner

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更新時間:2023-04-02 09:28:44瀏覽次數(shù):403次

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產(chǎn)品簡介

這款紫外曝光機非常適合對紫外光敏感層曝光處理,是理想的紫外掩膜曝光機系統(tǒng)和掩膜對準機,maskaligner.紫外曝光機廣泛用于光學,生物,微納科技,光刻等領域需要1-2掩膜的應用

詳細介紹

這款紫外曝光機非常適合對紫外光敏感層曝光處理,是理想的紫外掩膜曝光機系統(tǒng)和掩膜對準機,mask aligner.紫外曝光機廣泛用于光學,生物,微納科技,光刻等領域需要1-2掩膜的應用。
紫外掩曝光機特點
1)的單色曝光,曝光帶寬小于10nm;
2)冷紫外曝光,襯底環(huán)境溫度實時控制,從而實現(xiàn)均勻曝光,消除熱效應;
3)的功率密度
4) 紫外LED壽命更長,高達10000小時;
5)方便用戶使用的觸摸屏配置;
6) 不需要預熱;
7)計算機控制紫外光源強度調(diào)節(jié);
8)自動晶圓裝載和卸載功能;
9)超低能耗;
更多激光直寫光刻機請瀏覽:/guangkeji.html
紫外掩曝光機參數(shù)
分辨率:2微米
發(fā)射光譜:365+/-5nm, 385+/-5nm
4英寸晶圓照明: 25mW/cm^2 +/-10%
暴曬時晶圓溫度加熱:<1攝氏度
暴曬循環(huán):1秒~18小時
記憶的曝光循環(huán)數(shù): 10個
功率:180W
重量:8.2kg
尺寸: 260x260x260mm^2
電源: 110V/230v50Hz

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