詳細(xì)摘要: 這款紫外曝光機(jī)非常適合對(duì)紫外光敏感層曝光處理,是理想的紫外掩膜曝光機(jī)系統(tǒng)和掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī),maskaligner.紫外曝光機(jī)廣泛用于光學(xué),生物,微納科技,光刻等領(lǐng)域...
產(chǎn)品型號(hào):FPMIC-aligner所在地:更新時(shí)間:2023-04-02 在線留言印前設(shè)備 印刷機(jī)械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機(jī)械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備