詳細摘要： 簡單介紹：產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-03 在線留言塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
詳細摘要： 簡單介紹：產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-03 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-02 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長采用獨自的平行調整機構,能夠高精度地設定掩膜與Wafer間的近接間隙。利用獨自的高速圖像處理技術,實現(xiàn)高精度的對位。利用圖像處理技術,使預對位...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-02 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長利用本公司開創(chuàng)的高速圖像處理技術, 實現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對位。裝載機側和卸載機側*多可設置兩個籃具（選購項）。備有冷卻機構，可進行基...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-01 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現(xiàn)了照射面內的均勻性以及高照度。采用本公司開創(chuàng)的同軸對位方式和高速圖像處理...
產品型號：所在地：更新時間：2023-07-01 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產等的直描曝光。能夠對應半導體、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中...
產品型號：所在地：更新時間：2023-06-30 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產等的直描曝光。能夠對應半導體、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中...
產品型號：所在地：更新時間：2023-06-30 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：產品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產...
產品型號：所在地：更新時間：2023-06-29 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長采用獨自的鏡面?鏡頭光學系統(tǒng),實現(xiàn)**均勻的照射。配備有可設定非接觸?面內均一間隙的間隙傳感器和對應多層曝光的顯微鏡、X?Y?θ軸對位臺的對位...
產品型號：所在地：更新時間：2023-06-29 在線留言
詳細摘要： 簡單介紹：主要特長除近接曝光外，還可對應接觸曝光(軟接觸和硬接觸)可對應幅度為500mm以上的大型膠片。采用獨自的光學系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一...
產品型號：所在地：更新時間：2023-06-28 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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