簡單介紹：主要特長除近接曝光外，還可對應(yīng)接觸曝光(軟接觸和硬接觸)可對應(yīng)幅度為500mm以上的大型膠片。采用獨自的光學(xué)系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一燈式雙面曝光。裝載有自動對位功能。通過特殊照明實現(xiàn)透明材料的對位。除Roll to Roll外可設(shè)計枚葉式搬送等機構(gòu),根據(jù)客戶的需要構(gòu)成裝置。可選擇基板臺溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項)

詳細介紹

詳情介紹：

光刻機介紹

曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要用途

觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL、鋰離子電池、太陽能電池、印刷線路板

適合觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應(yīng)Roll to Roll,可實現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負責，包裝印刷網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

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日本DNK科研曝光機光刻機圓晶

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司

主要用途

適合觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應(yīng)Roll to Roll,可實現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。

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適合觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應(yīng)Roll to Roll,可實現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。