太陽(yáng)能單晶硅片測(cè)厚儀關(guān)鍵詞：?jiǎn)尉Ч杵瑴y(cè)厚儀、單晶硅片厚度檢測(cè)儀器、單晶硅片厚度測(cè)量?jī)x器、單晶硅片厚度測(cè)試儀

Labthink蘭光改款型測(cè)厚儀，可用于單晶硅片厚度的檢測(cè)，測(cè)試分辯率高達(dá)0.1微米，*單晶硅片對(duì)厚度高精度測(cè)試的要求；同時(shí)測(cè)試幅面寬度可以達(dá)到400mm，*單晶硅片整個(gè)幅面厚度測(cè)試的要求。C640測(cè)厚儀除了具備高精度、高效率等特點(diǎn)外，還采用測(cè)量樣品自動(dòng)前進(jìn)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，大大提高了測(cè)試效率，充分滿足用戶連續(xù)高效測(cè)試的要求，并配有專業(yè)軟件支持，操作方便、人機(jī)交互友好。
1、太陽(yáng)能單晶硅片測(cè)厚儀特征
C專業(yè)——Labthink在不斷的創(chuàng)新研發(fā)和技術(shù)積累中推陳出新，使用超高精度的位移傳感器、科學(xué)的結(jié)構(gòu)布局及專業(yè)的控制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)行業(yè)的測(cè)試穩(wěn)定性、重復(fù)性及精度。
高效——采用高效率、自動(dòng)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，有效簡(jiǎn)化人員參與過(guò)程；智能的控制及數(shù)據(jù)處理功能，為用戶提供更便捷可靠的試驗(yàn)操作和結(jié)果處理。
智能——搭載Labthink版控制分析軟件，具有友好的操作界面、智能的數(shù)據(jù)處理、嚴(yán)格的人員權(quán)限管理和安全的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)；支持Labthink*的DataShieldTM數(shù)據(jù)盾系統(tǒng)注3（可選配置），為用戶提供極為安全可靠的測(cè)試數(shù)據(jù)和測(cè)試報(bào)告管理功能。
2、太陽(yáng)能單晶硅片測(cè)厚儀功能原理
將預(yù)先處理好的薄型試樣的一面置于下測(cè)量面上，與下測(cè)量面平行且中心對(duì)齊的上測(cè)量面，以一定的壓力，落到薄型試樣的另一面上，同測(cè)量頭一體的傳感器自動(dòng)檢測(cè)出上下測(cè)量面之間的距離，即為薄型試樣的厚度。

測(cè)試應(yīng)用：
基礎(chǔ)應(yīng)用  薄膜、薄片、紙
擴(kuò)展應(yīng)用  金屬片、硅片、瓦楞紙板、紡織材料、非織造布、其它材料

技術(shù)參數(shù)：
C640M
測(cè)試范圍（標(biāo)配）        0～2mm
分辨率                  0.1μm
重復(fù)性                  0.8μm
測(cè)量范圍（選配1）       0～6mm
測(cè)量范圍（選配2）       0～12mm
測(cè)量間距                0～1000（可設(shè)定）mm
進(jìn)樣速度                1.5～80（可設(shè)定）mm/s
測(cè)量方式機(jī)械接觸式
測(cè)量壓力及接觸面積薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2
紙張：100±1 kPa(標(biāo)準(zhǔn)配置) / 50±1 kPa（可選配置）、200 mm2
C640H
測(cè)試范圍（標(biāo)配）        0～2mm
分辨率                  0.1μm
重復(fù)性                  0.4μm
測(cè)量范圍（選配1）       0～6mm
測(cè)量范圍（選配2）       0～12mm
測(cè)量間距                0～1000（可設(shè)定）mm
進(jìn)樣速度                1.5～80（可設(shè)定）mm/s
測(cè)量方式機(jī)械接觸式
測(cè)量壓力及接觸面積薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2
紙張：100±1 kPa(標(biāo)準(zhǔn)配置) / 50±1 kPa（可選配置）、200 mm2

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