熱蒸鍍設(shè)備

熱蒸發(fā)製程是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機(jī)材料等）置於真空環(huán)境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發(fā)，以最直接的方式蒸發(fā)到基板上，然後在基板上凝結(jié)成固態(tài)形成薄膜。熱蒸發(fā)比濺鍍提供更快的蒸發(fā)速率，但是，其容納材料的舟或坩堝尺寸有限，並且難以控制其蒸發(fā)速率。該方法通常用於小規(guī)模同時(shí)控制多組電阻熱源來沉積電極，如單層薄膜或共蒸發(fā)薄膜。

熱蒸鍍設(shè)備

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