奈米研究技術(shù)。

產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查。

材料研究。

太陽能電池。

觸碰螢?zāi)?/span>。

TFT-LCD。

氧化物、氮化物和金屬材料的研究。

客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和

其應(yīng)用。

具有顯示功能的全領(lǐng)域真空計和用

於壓力控制的Baratron真空計。

腔體的極限真空度約為10^-7Torr。

客製化基板尺寸為1100 x 1300 mm²(玻璃)。

優(yōu)異的薄膜均勻度小於±5％。

高沉積速率≥ 250nm/min和高效率陰極。

濺鍍功率：射頻 5kW，直流或脈衝直流20kW。

具有高均勻的氣體分佈的流量控制器。

穩(wěn)定的溫度控制，可將基板加熱到400°C。

水平或垂直濺鍍。

基板載臺回流線。

自動傳送機構(gòu)。

OES、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。