超高真空電子束蒸鍍設(shè)備介紹

超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr，在化學(xué)物理和工程領(lǐng)域十分常見。超高真空環(huán)境對於科學(xué)研究非常重要，因為實驗通常要求，在整個實驗過程中，表面應(yīng)保持無污染狀態(tài)和使用較低能量的電子和離子的實驗技術(shù)的使用，而不會受到氣相散射的過度干擾。在這樣超高真空環(huán)境下使用電子束蒸鍍，SYSKEY可以提供高品質(zhì)的薄膜。

針對超高真空和高溫加熱設(shè)計基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu)，使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn)，並在內(nèi)部做水冷循環(huán)來保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長時間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性。