NEJ-E/P200型噴印裝備，是國(guó)創(chuàng)科為顯示器件結(jié)構(gòu)制造開發(fā)的多功能復(fù)合裝備，同時(shí)配置PZT與EHD噴印系統(tǒng)，既可完成顯示功能層噴印又可完成微納結(jié)構(gòu)疊層，可實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜結(jié)構(gòu)規(guī)劃與制造，對(duì)材料特性具有更廣適應(yīng)性。

詳細(xì)介紹

技術(shù)參數(shù)

●基板尺寸：200*200mm（可定制）
●基板厚度：0.2-1.5mm
●運(yùn)動(dòng)精度：≤±3μm
●打印精度：≤±10μm
●材料粘度：5-20cps， 1-20000cps
●墨滴體積控制：±5％
●缺陷檢出率：≥99％
●水氧含量控制：≤1ppm
●箱內(nèi)潔凈度控制：ISO3
●輔助設(shè)備：VCD／UV／HPB可選配

裝備技術(shù)優(yōu)勢(shì)

同時(shí)配置EHD與PZT噴印技術(shù)
高精度視覺精確定位與測(cè)量技術(shù)
微納結(jié)構(gòu)點(diǎn)、線、面制備技術(shù)
飛行墨滴精確測(cè)量技術(shù)
圖案化規(guī)劃與參數(shù)自適應(yīng)調(diào)控技術(shù)
多液滴智能混合技術(shù)
在線AOI缺陷檢測(cè)技術(shù)

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