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整體焊接支架精密隔振光學平臺:RUWVD系列

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產(chǎn)品簡介

簡要描述:RUWVD系列隔振光學平臺支架采用整體焊接工藝,確保隔振系統(tǒng)整體的穩(wěn)定性,減震器采用專業(yè)級精密阻尼減振器,比起標準阻尼隔振墊,隔振性能進一步大幅提高。...

詳細介紹


RUWVD系列隔振光學平臺支架采用整體焊接工藝,確保隔振系統(tǒng)整體的穩(wěn)定性,減震器采用專業(yè)級精密阻尼減振器,比起標準阻尼隔振墊,隔振性能進一步大幅提高,另外支架配有高度調(diào)整機構(gòu)和腳輪,方便移動和調(diào)整。


臺面材料:不銹鋼面板材料為1Cr17
上臺面厚度6mm高導磁不銹鋼,表面密迪紋處理(配合磁力底座使用)
表面M6螺紋孔、孔間距25X25mm
平面度:≤0.02-0.05mm/m²
平臺中心300mm×300mm 內(nèi)載荷114kg,常規(guī)支撐間距下的變形量:<6×10-3mm
動撓度系數(shù)<1.2×10-3;的相對位移變形:<8×10-7mm
表面平面度優(yōu)于±0.1mm/600mm2;
表面粗糙度:≤0.8μm
采用專業(yè)級精密阻尼減振器,比起標準阻尼隔振墊,隔振性能進一步大幅提高
固有頻率:36Hz (根據(jù)實驗環(huán)境有差異)
振幅:<5μm
負載800kg/m²
可選厚度50mm/100mm/200mm/300mm
適合于光通訊、電子制造、科研、科研院校、顯微鏡、光路測試、光學測量、激光干涉、激光掃描、光譜實驗等領(lǐng)域應用(對磁場較高的要求,百級間均可滿足使用要求)



產(chǎn)品型號 臺面厚度(mm) 長-寬-高 (mm) 備  注
RUWVD1200x800x100 100 1200-800-800 4支撐  M6螺孔孔距25mm
RUWVD1500x1000x200 200 1500-1000-800 4支撐  M6螺孔孔距25mm
RUWVD1800x1200x200 200 1800-1200-800 4支撐  M6螺孔孔距25mm
RUWVD2000x1000x200 200 2000-1000-800 4支撐  M6螺孔孔距25mm
RUWVD2000x1200x200 200 2000-1200-800 4支撐  M6螺孔孔距25mm
RUWVD2000x1500x200 200 2000-1500-800 4支撐  M6螺孔孔距25mm
RUWVD2400x1200x200 200 2400-1200-800 4支撐  M6螺孔孔距25mm
RUWVD2400x1500x200 200 2400-1500-800 4支撐  M6螺孔孔距25mm
 


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