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狹縫式薄膜涂布機

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產(chǎn)品型號HPSC-18

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更新時間：2023-08-24 13:53:19瀏覽次數(shù)：481次

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：狹縫式薄膜涂布機(狹縫擠出式涂布機/鈣鈦礦太陽能電池涂布機)適用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布，非連續(xù)基材如LCD玻璃基板光阻涂布，也應(yīng)用于光學(xué)膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴散膜等）、OLED涂布等。

詳細介紹

產(chǎn)品簡介

涂布系統(tǒng)主要包括供料單元和涂布單元，涂布單元是通過利用精密機械加工所制作的上下模及安裝在上下模間的薄墊片所組成，供料單元由儲料、輸送的注射泵及過濾裝置等組成。系統(tǒng)由涂布模具相對于基片作精確運動，通過控制速率、精密計量和泵送工藝流體，將液體化學(xué)材料從上下模之間的縫隙擠出涂布于移動的基板（玻璃、不銹鋼和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液體流量與基板移動速度直接計算，其優(yōu)點為涂膜均勻性高、可適用的涂料粘度范圍廣、涂布速度快、以及可制作大面積的涂膜。

適用于有機太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布，非連續(xù)基材如LCD玻璃基板光阻涂布，也應(yīng)用于光學(xué)膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴散膜等）、OLED涂布等。

多種規(guī)格尺寸可選可定制，多種人性化配置可選：加熱臺、特殊氣體吹淋系統(tǒng)、多尺寸刀頭，多規(guī)格墊片等，滿足客戶多種需求，為客戶量身定制高精密專業(yè)設(shè)備。

性能特點

設(shè)備整體采用兩級調(diào)整確保大面積平臺水平度，涂布平臺有單獨的調(diào)平機構(gòu)，平臺是否平整作為工藝門檻的第.一步相當(dāng)于地基。

涂布刀頭采用專用合金，特殊表面熱處理的進口大尺寸刀頭（自有設(shè)計技術(shù)），防有機溶劑，防形變。

Z軸采用伺服電機配合編碼器加光柵尺雙閉環(huán)，確保刀頭的位置精度，和刀頭的水平度。

集成化注射泵，可聯(lián)動控制溶液流速，自動進液，自動除氣，自動管路清洗（需要配備清洗液，刀頭需拆卸清洗）。

涂布平臺運行機構(gòu)采用直線伺服電機提高平臺穩(wěn)定性，將工藝中影響的因素減到極.致。

廢液回收系統(tǒng)，可配合管路清洗進行廢液回收，方便廢液處理。

涂布平臺帶有多區(qū)域真空吸附功能，基底定位功能，方便基底定位以及涂布過程的固定。

多段式涂布工藝，更好的保證基底首尾膜厚的控制。

整臺設(shè)備可置放在手套箱中使用。

應(yīng)用領(lǐng)域

- 有機光伏太陽能電池OPV；

- 鈣鈦礦太陽能電池PerovskitePV；

- 平板顯示(FPD),OLED；

- 石墨烯，碳納米管；

- 超級電容；

- 及其他光伏應(yīng)用；

技術(shù)參數(shù)：

基底：玻璃，多孔質(zhì)基材，金箔，硅片

基底厚度：2-10mm

基材長寬：MAX 120x120mm

涂層厚度（濕厚）：2-1000um

固含量：10-50%

粘度：1-2000cps

涂布方式：狹縫擠出式涂布

涂布寬度：外寬MAX 120 mm(實際工作100mm)

涂布平臺速度：1-30mm/s

平臺平整度：±1.5um

電源：220V x 50Hz

出膠速度：1-500uL/s

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