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核徑跡綜合防偽標(biāo)識

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產(chǎn)品簡介

核徑跡綜合防偽標(biāo)識介紹：核徑跡綜合防偽標(biāo)識圖案由每平方厘米幾十萬到幾百萬個(gè)微米級微孔組成

詳細(xì)介紹

核徑跡綜合防偽標(biāo)識介紹：

核徑跡綜合防偽標(biāo)識圖案由每平方厘米幾十萬到幾百萬個(gè)微米級微孔組成。微孔在光線下反射形成白色圖案。微孔孔徑很小，孔數(shù)很多，微孔在平面上按統(tǒng)計(jì)規(guī)律分布，孔道為圓柱形，具有良好的透氣、透水性能。通過模擬試驗(yàn)，證明利用激光打孔或機(jī)械加工手段，無法制得和核微孔防偽膜類似的產(chǎn)品。

核徑跡綜合防偽標(biāo)識的制造過程是一個(gè)核物理、光電、生化等多個(gè)學(xué)科知識交織組合應(yīng)用的過程，需要強(qiáng)大的科技力量和昂貴的設(shè)備支持做保證，其技術(shù)難度高，工藝復(fù)雜性不是一般的商業(yè)企業(yè)可以涉足的。

核徑跡綜合防偽標(biāo)識的特點(diǎn)：

1．核孔膜的制造需要的核技術(shù)和昂貴的核設(shè)施，這些敏感的核設(shè)施都控制在的大型核技術(shù)研究單位里，都在的監(jiān)管之下，造假者很難具備。

2．一般核電站的反應(yīng)堆不能用來制造核徑跡防偽膜，只有特殊結(jié)構(gòu)的反應(yīng)堆才能用來制造核徑跡防偽標(biāo)識。

3. 核孔膜的制造需要高質(zhì)量的科技人員．高能物理技術(shù)和核技術(shù)，都是當(dāng)今世界的技術(shù)，在世界上也只有少數(shù)國家能掌握。

4．孔在微觀上分布是不均勻的，按隨機(jī)規(guī)律分布．由重離子加速器生產(chǎn)的核徑跡防偽標(biāo)志膜，它的孔道基本是平行的，而用核反應(yīng)堆生產(chǎn)的核徑跡防偽標(biāo)志膜，它的孔道是有一定的散射角分布的，后者更不容易仿造。

核徑跡綜合防偽標(biāo)識案例展示：

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案例1：公牛

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案例2：TCL

案例3：金杯電纜案例展示

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案例3：金杯電纜

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案例4：長安鈴木

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