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XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

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所在地區(qū)：上海上海市

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

用途：　　可廣泛用于工廠的計(jì)量室、光學(xué)車間和科研院所的實(shí)驗(yàn)室

詳細(xì)介紹

XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

用途：
　　可廣泛用于工廠的計(jì)量室、光學(xué)車間和科研院所的實(shí)驗(yàn)室。光學(xué)平面的平面度測(cè)量、光學(xué)平板的微小楔角測(cè)量、光學(xué)材料均勻性測(cè)量、光學(xué)薄板波前誤差的測(cè)量。

特點(diǎn)：
　　防震性能好、有的條紋鎖定度、視場(chǎng)清晰、生產(chǎn)場(chǎng)所可用性優(yōu)于市場(chǎng)同類產(chǎn)品，大容量的工作室為大批量生產(chǎn)企業(yè)的大鏡面檢測(cè)提供了方便。

技術(shù)參數(shù)：

  1. 標(biāo)準(zhǔn)平面（A面），工作直徑D1=Φ146mm，平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)

  2. 第二標(biāo)準(zhǔn)平面（B面），工作直徑D2=Φ140mm，平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20)

  3. 準(zhǔn)直系統(tǒng)----------------－工作直徑Φ146mm，焦距 f = 400mm

  4. 光源規(guī)格----------------－激光ZN18(He-Ne)

  5. 干涉室尺寸----------------Φ480×380×285mm


選配件一：
　　精密升降工作臺(tái)（適用GⅠ、GⅡ型）

用途：
主要用于平晶、平行平晶等非鍍膜面高精度平面度的測(cè)量與檢定以及儀器采用鈉光或汞光照明時(shí)的測(cè)量。

XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

選配件二：
　　透檢工作臺(tái)（適用GⅠ型）

用途：
主要用于超薄平行平板的波前誤差測(cè)量、光學(xué)平板微小楔角相對(duì)干涉測(cè)量以及光學(xué)材料折射率均勻性的偏差判斷。

XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

選配件三：
　　高反射面測(cè)量工作臺(tái)（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）

用途：
主要用于鍍反射膜及高折射率材料（如硅、鍺等材料）表面精度的測(cè)量與檢定。

XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

選配件四：
　　顯示監(jiān)控系統(tǒng)（適用GⅠ型）

用途：
顯示監(jiān)控系統(tǒng)的應(yīng)用，可減輕操作者的勞動(dòng)強(qiáng)度，并可實(shí)施多人判讀與分析，以達(dá)到教學(xué)與監(jiān)控的目的。

XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

選配件五：
　　計(jì)算機(jī)影像系統(tǒng)（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）

用途：
影像系統(tǒng)的應(yīng)用，可將被檢測(cè)鏡面的原始資料通過(guò)計(jì)算機(jī)保存和傳輸，以達(dá)到資料存檔及遠(yuǎn)程監(jiān)控、驗(yàn)收評(píng)定質(zhì)量的目的。

XQ15-GⅠ激光平面干涉儀

選配件六：
　　倍率成像測(cè)微系統(tǒng)（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型）

用途：
　　主要用于目視精確量值的索得及小型被測(cè)件干涉條紋按要求放大測(cè)量與判讀。

技術(shù)參數(shù)：
　　測(cè)微目鏡放大率15X
　　倍率成像測(cè)微目鏡適用范圍見(jiàn)下表：

規(guī)格 size

焦距 
focal length(mm)

放大倍率（β） 
magnification

適用被測(cè)口徑 
Working aperture

F15

151

0.56

Ф90~Ф150

F23

23

0.86

Ф50~Ф105

F37

37

1.39

Ф60以下


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