HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱
HMDS預(yù)處理涂膠烤箱真空烘箱干燥箱
HMDS預(yù)處理真空烘箱
一、預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，而涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝顯得更為必要，尤其在所刻線條比較細(xì)的時(shí)候，任何一個(gè)環(huán)節(jié)出現(xiàn)一點(diǎn)紕漏，都可能導(dǎo)致光刻的失敗。在涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，如果在晶片表面直接涂膠的話，會(huì)造成光刻膠和晶片的黏合性較差，甚至造成局部的間隙或氣泡，涂膠厚度和均勻性都受到影響，進(jìn)而會(huì)影響了光刻效果和顯影，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和晶片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕，所以涂膠工藝中引入一種化學(xué)制劑HMDS(六甲基二硅氮甲烷，英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到晶片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物，是一種表面活性劑，它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
二、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)與性能
2.1產(chǎn)品結(jié)構(gòu)：
1．設(shè)備外殼采用優(yōu)質(zhì)冷軋鋼板表面靜電噴塑，內(nèi)膽316L不銹鋼材料制成；無(wú)縫不銹鋼加熱管,均勻分布在內(nèi)膽外壁，內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置；鋼化、雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內(nèi)物品實(shí)驗(yàn)情況。
2．箱門閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)保持高真空度。
3．溫度微電腦PID控制,系統(tǒng)具有自動(dòng)控溫、定時(shí)、超溫報(bào)警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鍵,控溫準(zhǔn)確可靠。
4．智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時(shí)間。
5．HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，使真空箱密封性能確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。
6．無(wú)發(fā)塵材料，適用百級(jí)光刻間凈化環(huán)境使用。
三、HMDS烘箱技術(shù)參數(shù)
規(guī)格型號(hào) | PVD-090-HMDS | PVD-210-HMDS |
容積（L） | 90L | 210L |
控溫范圍 | RT+10～250℃ |
溫度分辨率 | 0.1℃ |
控溫精度 | ±0.5℃ |
加熱方式 | 內(nèi)腔體外側(cè)加溫 |
隔板數(shù)量 | 2PCS | 3PCS |
真空度 | <133Pa（真空度范圍100～100000pa） |
真空泵 | 抽氣速度4升／秒，型號(hào)DM4 |
電源/功率 | AC220/50Hz，3KW | AC380V/50Hz，4KW |
內(nèi)膽尺寸W*D*H | 450×450×450 | 560×640×600 |
外形尺寸W*D*H | 800×630×850 | 1220×930×1755 |
外形尺寸（新款） | 980×655×1600 | 1220×930×1755 |
會(huì)員1.png)
QQ:2568841715
