
全自動光罩對準曝光機
全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出, 自動對位曝光,可一天24小時操作,減少人力需求,提高可靠性,增加產量, 本公司開發(fā)之高產量全自動曝光機, 對位制程每小時可產出250片以, 無對位制程每小時可產出350片以上, 產量為業(yè)界,兩倍于其他廠牌機型。
德?lián)P光電有限公司
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更新時間:2023-06-06 09:33:44瀏覽次數:454次
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全自動機型之晶圓傳送為自動輸入與輸出, 自動對位曝光,可一天24小時操作,減少人力需求,提高可靠性,增加產量, 本公司開發(fā)之高產量全自動曝光機, 對位制程每小時可產出250片以, 無對位制程每小時可產出350片以上, 產量為業(yè)界,兩倍于其他廠牌機型。
紫外光源機型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W,3500W,5000W 。
曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″ 。
波長 : NUV(含365nm,400nm,435nm),光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑) 。
均勻度: +-3~5%,高壓汞燈泡及電源供應器。
采用固定倍率鏡頭, 預對臺一支或兩支鏡頭做粗定位, 進片位置兩支鏡頭做初步對位, 曝光位置兩支鏡頭做精密對位。
相機可采類比或數位,可使用百萬晝素相機, 由PC之客制化對位軟體,做影像自動對位。
影像打光有 : LED同軸光或環(huán)形光, 可選背面對準影像系統(tǒng)機型。
可將來自輸入臺的基板作靠邊粗定位, 以便進片手臂送至對準臺做精密對準。
左手小手臂可輸入預對臺上之基板至對準臺, 與取出曝光后之基板至輸出臺。
晶舟輸入臺由基板推入器將基板傳至預對臺.曝光后的基板, 由導出臺傳至輸出臺之晶舟,未完成之基本移至退片臺。
光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″, 5″,6″,9″ 。
晶圓真空吸盤 : 2″, 4″, 6″,8″ 具光罩晶圓水平校正功能。
曝光模式可選 : 真空接觸式與近接式, X,Y,T軸馬達調整 10mm,解析度 1um, Z軸馬達調整 5mm,解析度 1um,
上光罩開啟以取放基板, 自動對準動作依自動對準軟體計算結果由PLC控制調整。
PLC及人機界面控制系統(tǒng)和工業(yè)電腦之自動對準軟體, 作基板輸出入及對準曝光程序自動操作。
具四個防震氣墊,具調整腳及移動輪, 鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機臺, 開數個操作與維修門窗及視窗。
產量依對位精度及曝光時間而不同, 近接曝光機型可達每分鐘 5片,
采真空接觸曝光圖形解析可達 1um以內, 采近接式曝光依晶圓與光罩間距設定約在 5~10um。
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