一般工作距離可調(diào)，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會(huì)增加。
離子流的大小通過控制真空壓力實(shí)現(xiàn)，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結(jié)晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高,I 越小，濺射速度越慢，原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小。
加速電壓為固定,也有可調(diào)的，加速電壓越高，對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。
一般工作距離可調(diào)，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會(huì)增加。離子流的大小通過控制真空壓力實(shí)現(xiàn)，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結(jié)晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高,I 越小，濺射速度越慢，原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小。加速電壓為固定,也有可調(diào)的，加速電壓越高，對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。有些熱敏樣品，需要對樣品區(qū)進(jìn)行冷卻，水冷或者帕爾貼冷卻；也可以采用磁控裝置，像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經(jīng)過這樣的改造，當(dāng)然會(huì)增加很高的成本?？梢栽谑灡砻鏋R射一層金屬，而沒有任何損傷！真空中的雜質(zhì)越多，鍍膜質(zhì)量越差。一般黃金比較穩(wěn)定，可以采用空氣作為等離子氣源，而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。氣體原子序數(shù)越高，動(dòng)量越大，濺射越快，但晶粒會(huì)較粗，連續(xù)成膜的膜層較厚。保持真空室的潔凈對高質(zhì)量的鍍膜有很大好處。不要讓機(jī)械真空泵長期保持極限真空，否則容易反油。
儀器多機(jī)尺寸：長610mmX竟420mmX言220mm(注：含腔體總高490mm)
工作腔室尺寸：：金篇腔體：直徑260mmX高270mm(外尺寸）
直徑210mmX高270mm(內(nèi)尺寸)
靶材尺寸：室徑50mmX罩3mm(圖契材材質(zhì)不司星度有所不司）
靶材料：標(biāo)配一雜直徑50mmX03mm的金起（可渡射弱磁性金屬膜）
靶槍冷卻方式：水冷
真空系統(tǒng)：抗沖擊渦輪分子泵，抽速為300L/s
前級機(jī)械泵：抽速為4L,帶防返油電磷閥及油污拉濾器
真空測量：采用復(fù)合真空計(jì)些測真空
極限真空度：5×10Pa(10分鐘可到5×10Pa)
電源：官流恒流電源：
翰入克壓：220W
輸出電壓：0-600r可話
輸出電流（沉積電流）：0-1.6A可調(diào)
教樣臺(tái)：旋裝臺(tái)（直徑尺寸用戶可選，不能超過中150mm)
工作氣體：Ar箋管性氣體（警自備氣瓶及減壓閥）
氣路：誰射喜空度手動(dòng)道整
沉積速寶：0-200nm
水冷：自循環(huán)冷卻水機(jī)
電源電壓：220V50Hz
啟動(dòng)功室：3KW
保修：貳年
價(jià)格面議
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QQ:2568841715
