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光清洗燈

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公司名稱涿州圣威爾UV科技發(fā)展有限公司
品牌
型號(hào)SVR
所在地
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
更新時(shí)間2017/8/1 13:32:04
訪問次數(shù)1162

產(chǎn)品標(biāo)簽:

光清洗燈/UV光清洗燈紫外線光清洗燈 UV光源/UV燈

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

涿州市UV圣威爾科技發(fā)展有限公司成立于2000年，位于首都北京南60公里的優(yōu)秀旅游城市河北省涿州市，西臨107國(guó)道，東臨京石高速，交通十分便利。本公司主要從事研發(fā)、生產(chǎn)、銷售電光源系列產(chǎn)品(紫外和紅外線光源)及印刷行業(yè)配套膠輥，以紫外技術(shù)合紅外技術(shù)服務(wù)于印刷包裝、電路板、電子、光盤、液晶、UV涂裝等行業(yè). 公司擁有*的生產(chǎn)技術(shù)合*的生產(chǎn)設(shè)備，有一支高水平、高素質(zhì)的員工隊(duì)伍，依靠?jī)?yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和良好的信譽(yù)及完善的售后服務(wù)為客戶提供Z全面的產(chǎn)品合服務(wù)，不斷推陳出新，迎合瞬息萬變的市場(chǎng)需求，滿足客戶不斷更新發(fā)展的需要，正努力成為國(guó)內(nèi)UV行業(yè)的人。涿州市UV圣威爾科技發(fā)展有限公司愿與您攜手共同發(fā)展UV事業(yè)，打造圣威爾品牌！

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UV光源;UV燈;UV變壓器;UV電容;UV能量計(jì);進(jìn)口UV點(diǎn)光源;手提光固機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法Z為合適。主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。

光清洗燈產(chǎn)品信息

光清洗燈light clean lamp

隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，清洗工藝在光電產(chǎn)品中是*的工藝，清洗對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來越重要。目前國(guó)外廣泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗，它一方面能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染，同時(shí)能夠?qū)⑶逑催^程縮短。

一、紫外光清洗的工作原理ultraviolet light clean"s principle of operation：

光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到"原子清潔度"。更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長(zhǎng)為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí),由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力, 并在吸收185nm波長(zhǎng)的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用?？諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?/span>185nm波長(zhǎng)的紫外光后也會(huì)產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而*清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時(shí)，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量為600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD制作過程中，除了低壓水銀燈產(chǎn)生臭氧清洗玻璃外，目前制程的主流是，使用Excimer Lamp,其172nm波長(zhǎng)紫外線的高反應(yīng)性質(zhì)對(duì)玻璃的清洗效率更好。

二、光清洗的特點(diǎn)light clean feature：

1、是一種摳上磾方式，可在空氣中進(jìn)行并且在清洗后不必進(jìn)行干燥。

2、可*清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。

3、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題。

4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。

5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度*。

6、由于光清洗是通過光敏、氧化反應(yīng)去除物體表面的碳和有機(jī)化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對(duì)表面污垢清洗、不適對(duì)污垢量較多，無機(jī)類污垢清洗。

三、光清洗的技術(shù)應(yīng)用范圍light clean technology"s range of application：

主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法zui為合適。

主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。

可以去除污垢：有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等。

此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)(紫外光表面質(zhì)變)的特點(diǎn)，目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過程中，主要是用在膜處理技術(shù)上，對(duì)于改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產(chǎn)品，用于納米技術(shù)研究，產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設(shè)備相當(dāng)雷同，差別在于制造工藝要求的不同。隨著線路的精細(xì)化及產(chǎn)品的彩色比，LCD產(chǎn)業(yè)對(duì)制造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有設(shè)備能力不斷地精進(jìn)，才能提高生產(chǎn)的質(zhì)量與效率。